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半导体显象管用超纯水设备

产品时间:2019-08-19

简要描述:

半导体显象管用超纯水设备应用:半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;超纯材料和超纯化学试剂;实验室和中试车间;汽车、家电表面抛光处理;光电产品;其他高科技精微产品。

一、半导体显象管用超纯水设备概述

    半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高。目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业标准,分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以区分不同水质。

二、半导体显象管用超纯水设备应用领域

     1、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;

   2、超纯材料和超纯化学试剂;

   3、实验室和中试车间;

   4、汽车、家电表面抛光处理;

   5、光电产品;

   6、其他高科技精微产品;

三、工艺流

1、一级反渗透 混床(出水2---15mΩ.cm)

原水箱—原水泵—多介质过滤器—活性炭过滤器—软水器→保安过滤器→高压泵—反渗透主机→纯水箱—纯水泵→阴阳离子交换混床→微孔过滤器—储水罐→纯水输送泵→用水点

2、一级反渗透 EDI系统(出水5---15mΩ.cm)

原水箱---原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→高压泵---反渗透主机→纯水箱—EDI系统→储水罐→纯水输送泵→用水点

3、二级反渗透 EDI系统(出水18mΩ.cm)

原水箱—原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→一级高压泵—一级反渗透主机→PH调节—二级级高压泵—二级反渗透—纯水箱—脱气装置—微孔过滤器→EDI系统→抛光混床系统—储水罐→纯水输送泵→用水点

四、电子超纯水设备特点

     设备通常由全自动多介质过滤器,全自动活性碳过滤器,全自动软化器、精密过滤器等构成前期预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等构成主要设备系统。水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器,真正做到了无人职守,同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法,使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。   

温馨提示:水处理设备的要求需要了解几点内容:

1、纯水的产水量(按每小时计算)

2、纯水要求的水质(例如多少兆欧)

3、原水进水水质是什么水(例如自来水,地表水,深井水)

4、制作纯水的工艺(工艺不一样价格也不一样)

5、用于生产什么产品

6、配置的品牌及控制方式(PLC自动控制,手动控制)型号和数量等。

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